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高真空CVD系统（三温区）

高真空CVD系统（三温区）

CNT高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备，广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。※产品结构高真空CVD系统…
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高真空CVD系统（两温区）

高真空CVD系统（两温区）

CNT高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备，广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。※产品结构高真空CVD系统…
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高真空CVD系统（单温区）

高真空CVD系统（单温区）

CNT高真空CVD系统是一款专业在沉底材料上生长高质量石墨烯、碳纳米管、碳化硅的专用设备，广泛应用于在半导体、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
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井式气氛保护炉

井式气氛保护炉

西尼特系列井式气氛炉主要应用于航空航天、电子、机械加工等行业。可对不锈钢、无氧铜、金属化陶瓷件、轴类零件的垂直热处理和其它模具钢、合金钢、汽车零部件等机械零件在氮气保护气氛下无氧化回火、…
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1200℃三温区管式气氛炉

1200℃三温区管式气氛炉

CNT管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。
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1200℃双温区管式气氛炉

1200℃双温区管式气氛炉

CNT管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。
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1200℃单温区管式气氛炉

1200℃单温区管式气氛炉

CNT管式气氛炉主要用于石墨、陶瓷、锂电池、稀有金属、稀土、生物材料等在气氛保护下进行烧结、镀膜、热处理、灰分测定等，也适用于石墨烯、碳纳米管、二硫化钼等二维材料的制备。
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